Description
Le TUCANO est un système plasma polyvalent de laboratoire moyen de gamme conçu pour les applications suivantes : nettoyage, modification et activation
Il peut opérer sur des différents matériaux comme des métaux, plastiques, céramiques, papiers et autres
Son interface conviviale avec écran LCD couleur tactile fait du TUCANO une solution polyvalente et facile à mettre en œuvre pour les moyennes productions ou les applications R&D.
Le TUCANO est complètement pilotable par un microcontrôleur, avec ce système il est possible d’exécuter des traitements sur une des échantillons préparés par l’utilisateur.
En utilisant une valve aiguille de haute précision, un flux de gaz est introduit dans la chambre de traitement.
Un signal à basse fréquence (50 kHz) est alors appliqué aux électrodes à l’intérieur de la chambre, cela va interagir avec les molécules de gaz afin de passer en état de plasma.
Le plasma généré va générer un type d’ions négatifs qui va interagir avec les premières monocouches de la surface du substrat à traiter.
Le résultat de ce process pouvant être modifié en agissant sur les paramètres (débit de gaz, force du signa, durée …)
Caractéristiques techniques :
- Équipement
- dimensions : 486 x 528 x 385 mm
- poids net (sans la chambre à vide) : 34 kg
- dégagement : gauche, droite, devant : 600 mm, arrière : 300 mm
- Chambre :
- matériau : aluminium
- volume max échantillon : 5,9 Litres – diam 153 mm et L : 324 mm
- Electrode :
- configuration : plane et parallèle avec bouclier foncé
- surface active de travail : 118 x 310 mm
- écart d’électrode : 68 mm
- matériau : aluminium
- Signal RF :
- puissance max de sortie : 200 W
- fréquence : 13.56 MHz
- Gaz de process :
- débit possibles : 5, 10, 20, 50, 100 sccm
- nombre max de gaz : 2 (avec contrôleur de débit massique MKS Instruments)
- Interface de contrôle : PLC
- par microcontrôleur
- interface utilisateur : écran tactile LCD couleur
- Alimentation 220 V – 50 HZ
- Entrée de gaz : 6 mm diamètre externe avec raccords de compression
- Gaz de purge conseillé : N2, Air avec pression min 0,8 bar et max 1 bar
- Sortie NW16 ISO-KF
Avantages :
- Système plasma de laboratoire moyen de gamme polyvalent, fiable et facile d’emploi
- Bon rapport prix-performances
- Résultats uniformes et répétables
- Fabriqué avec des composants de haute qualité
- Capacité de mémorisation de données
- Puissance RF réglable de 1 à 200 W
Applications types :
- Semiconducteurs
- Optique et ophtalmologie
- Industrie textile
- Bio-médical
- Mécanique de précision
- Industrie plastique
