Close
Réacteur plasma de table : FALCON RIE+ Agrandir l'image

Réacteur plasma de table : FALCON RIE+ | GAMBETTI KENOLOGIA

Le système FALCON RIE+ est un réacteur plasma de table composé d’une chambre cylindrique, équipée d’une fenêtre pour l’inspection interne de la chambre pendant le processus.

Plus de détails

Téléchargement

Description

Le système FALCON RIE+ est un réacteur plasma de table composé d’une chambre cylindrique, équipée d’une fenêtre pour l’inspection interne de la chambre pendant le processus, dans laquelle se trouvent deux électrodes plates et parallèles. Le système utilise des signaux de puissance de fréquence RF (13,56 MHz) pour générer du plasma dans sa chambre de traitement.

La particularité de ce système est sa capacité à fonctionner selon deux modes distincts.
Avec le mode appelé Plasma Cleaning, il est possible d’effectuer des traitements principalement chimiques dans le but d’éliminer des contaminants de nature diverse des surfaces à traiter. Avec le mode de fonctionnement appelé RIE (Reactive Ion Etching), on ajoute un phénomène de bombardement ionique du plasma qui augmente ou, en général, favorise également la réaction physique entre les espèces activées par le plasma et la (surface) à traiter. Le résultat est une augmentation de la vitesse de réaction et de modification de la surface, car la com-binaison des actions chimiques et physiques permet de traiter/enlever les matériaux des surfaces de manière anisotrope, c’est-à-dire en contrôlant la direction du traitement.

Principales applications :

  • Incision chimique/physique dans les processus de micro-fabrication.
  • Élimination des résidus de résine photosensible (comme le démoulage et la cendre), ou des couches minces de polymère.
  • Modification de l’énergie de surface et de la mouillabilité des matériaux.
  • Texturation et structuration des micro et nano surfaces.
  • Nettoyage de surface des résidus organiques.
  • Activation de surface.
  • Principales caractéristiques techniques :
    • Dimensions internes de la chambre de traitement : 252 mm L 250 mm.
    • Volume interne de la chambre à vide : ≥ 14lt.
    • Les dimensions de la chambre permettent d’accueillir des plaquettes de diamètre 5», 6» et 8».

Caractéristiques techniques

  • Dimensions :
    • L x L x H – Encombrement : 710 x 635 x 750-1000 mm
    • Poids net : ≥ 80 Kg
    • Dégagements :Droit, Gauche, Avant – 200 mm, arrière – 200 mmm
  • Chambre :
    • Matière : Aluminium
    • Volume max : ≥ 14lt. - Ø 252 mm L 250 mm
  • Électrode :
    • Configuration de l'électrode : plane et parallèle avec un bouclier d'espace sombre
    • Zone de travail active/Plateau d'échantillons : 210 mm
    • Ecartement des électrodes : 162 mm
    • Matière : Aluminium
  • Signal RF :
    • Puissance de sortie de Maw : 200W
    • Fréquence : 13,56MHz
  • Gaz de procédé :
    • Débits Full-Scale disponibles : 100 sccm
    • Nombre max de gaz : 3 (contrôleur de débit massique de MKS Instru-ments)
  • Interface de contrôle :
    • Contrôle : Automate Industriel
    • Interface utilisateur : écran tactile

4 autres produits dans la même catégorie

Close